光刻机技术壁垒极高，目前是我国先进制程扩产的‘卡脖子’卡的最厉害的环节。

在半导体制造领域，光刻机是延续摩尔定律的核心装备。在整个集成电路制造过程中,光刻是最核心、最复杂的工艺步骤，利用光学原理在硅片上转移电路图形，决定了晶体管的最小特征尺寸及密度。

全球市场由ASML主导。当前最高端的产品就是其研发的极紫外光刻机（EUV），能支持7nm甚至更先进的工艺，单价超1.5亿美元。

光刻机,或被严重低估的5家优质核心公司（附名单）

特别声明：以下内容绝不构成任何投资建议、引导或承诺，仅供学术研讨。

常青科技

公司作为国内领先的光刻胶及配套材料供应商，凭借自主研发的高端光刻胶配方和精密涂布技术，成功打入国内主流晶圆厂供应链。其KrF和ArF光刻胶产品性能指标已达到国际先进水平，在中芯国际、长江存储等头部厂商验证通过并实现批量供货。2024年半导体材料业务营收同比增长68%，在国产替代浪潮下，公司有望成为光刻材料领域的关键突破者。

光刻机,或被严重低估的5家优质核心公司（附名单）

华特气体

公司是国内特种气体领域的隐形冠军，通过突破高纯电子级六氟乙烷、三氟化氮等光刻工艺关键气体技术，成为ASML认证的全球少数光刻气供应商之一。其超高纯气体纯化技术达到PPT级（万亿分之一）标准，已覆盖国内90%以上12英寸晶圆厂，并与台积电、英特尔建立长期合作关系。2024年光刻气体营收占比提升至35%，在EUV光刻配套气体研发上取得重大突破。

茂莱光学

公司作为精密光学元件核心供应商，其高精度透镜、棱镜和光学镀膜技术达到纳米级面形精度，为上海微电子光刻机提供关键光学系统。自主研发的深紫外光学元件透过率超过99.5%，DUV物镜组装良率突破行业瓶颈，2024年光刻机配套业务同比增长120%，在国内首台28nm光刻机中承担40%以上光学模块供应。

光刻机,或被严重低估的5家优质核心公司（附名单）

凯美特气

公司在电子特气领域实现技术突围，其光刻用氖氦混合气体纯度达到99.9999%，打破乌克兰、俄罗斯的长期垄断。通过建立全球稀有气体精馏提纯基地，保障了国内半导体产业的气体安全，2024年成功导入长江存储EUV光刻气供应链，稀有气体业务毛利率高达65%，成为光刻产业链不可或缺的战略供应商。

蓝英装备

公司专注半导体清洗设备研发，其光刻机配套的晶圆表面处理系统可达到0.1nm级表面粗糙度控制，解决EUV光刻的缺陷控制难题。自主研发的SUPER CORE超临界清洗技术将粒子去除率提升至99.99%，已应用于ASML和尼康的光刻机维护体系，2024年获得3.2亿元光刻机配套设备订单，技术实力被严重低估。

光刻机,或被严重低估的5家优质核心公司（附名单）


                                        
友情提示
本站部分转载文章，皆来自互联网，仅供参考及分享，并不用于任何商业用途；版权归原作者所有，如涉及作品内容、版权和其他问题，请与本网联系，我们将在第一时间删除内容！  
                                        
联系邮箱：1042463605@qq.com